光刻材料（如光刻膠和顯影液）的表面張力對光刻工藝本身具有重要影響。例如，旋涂均勻性、平面化和附著力直接取決于材料的表面張力。同樣，涂層的表面自由能（SFE）也與此密切相關。

通過接觸角測量，可以研究半導體技術中使用的基板和涂層的表面自由能（SFE）。測量接觸角能夠幫助您快速優化新工藝步驟，并更好地標準化現有工藝。晶圓表面性質的微小變化會表現為接觸角的顯著且易于檢測的改變。投入少量時間測量接觸角，可以通過避免后續生產問題獲得回報。為了降低缺陷密度并實現光刻膠結構的微小特征尺寸（<1μm），良好的光刻膠附著力至關重要。借助接觸角測量，您可以輕松控制附著力。

德國進口接觸角測量儀SURFTENS HL 200 的特點

接觸角測量系統 SURFTENS HL 200 專為半導體行業和研究設計，尤其適用于硅晶圓表面處理的工藝控制。它是研究晶圓接觸角和潤濕性的理想工具。SURFTENS HL 200 能夠滿足對硅晶圓潤濕性快速、高精度且便捷的測量需求。

SURFTENS HL 200 的突出特性包括：

• 緊湊省空間、封閉式機械基礎結構  

• 高質量固定焦距測量物鏡  

• USB攝像頭  

• 所有組件集成于封閉外殼內，防止錯位  

• 可調均勻高亮LED照明  

• 特氟龍涂層晶圓臺（直徑200mm）  

• 晶圓臺手動x軸和φ軸定位  

• 支持真空鑷子放置晶圓  

• 晶圓臺行程：100mm  

• 晶圓臺旋轉角度：360°  

此結構可測量晶圓表面任意點。晶圓臺的手動x軸和φ軸配備刻度，便于定位到指定位置。

滴液系統調節功能：  

• 手動z軸調節針頭高度  

• 手動y軸調節針頭居中  

• 手動x軸調節針頭對焦  

滴液系統配置選項：  

• 1套手動直滴系統  

• 2套手動直滴系統  

• 1套軟件控制自動直滴系統  

• 2套軟件控制自動直滴系統  

• 1套手動+1套自動直滴系統組合  

自動測量功能實現最高精度

通過手動或自動直滴系統生成測試液滴（通常為去離子水）。液滴圖像以高清實時視頻形式立即呈現在電腦屏幕上，單次按鍵即可啟動測量。軟件自動計算接觸角，并同步顯示圖形化結果與數值數據。僅需1秒的快速測量可避免誤差。德國進口接觸角測量儀SURFTENS HL 200 將高重復性、測量精度與操作便捷性結合。

技術參數

滴液系統  

最小液滴體積：0.2μl  

滴液分辨率/精度：0.1μl（水）  

注射器：玻璃或一次性魯爾鎖注射器  

接觸角測量精度  

分辨率：0.01°  

重復性：±0.1°（實時視頻）  

精度：±0.1°  

軟件  

操作系統：Windows